典型文献
曝光方式对负性光敏聚酰亚胺图形化的影响
文献摘要：
光刻胶产业化过程遇到的第一个技术屏障是实验室优化的材料组分和光刻工艺在工业生产线上不能再现图形,原因是实验室与工业生产线的曝光方式不同所致.本文以负性光敏聚酰亚胺树脂为例,配合以不同引发速率的引发剂,在相同的曝光能量下以步进式(高功率、短时间)和接触式(低功率、长时间)两种模式分别进行曝光实验.通过观察图形质量发现:步进式曝光匹配引发速率快的引发剂、接触式曝光配合引发速率慢的引发剂才能获得最佳的图形效果.结合自由基形成和扩散动力学诠释了不同曝光模式下的图形化规律,为实验室产品走向工业应用提供了组分修正的理论依据.
文献关键词：
聚酰亚胺;负性光刻胶;自由基引发;自由基扩散;光刻工艺;图形化
中图分类号：
作者姓名：
张配荧;尹玄文;李珍;陆学民;路庆华
作者机构：
上海交通大学化学化工学院, 上海 200240;上海明士华新材料有限公司, 上海 201108;同济大学化学科学与工程学院, 上海 200082
文献出处：
引用格式：
[1]张配荧;尹玄文;李珍;陆学民;路庆华-.曝光方式对负性光敏聚酰亚胺图形化的影响)[J].功能高分子学报,2022(06):554-559
A类：
负性光刻胶,自由基扩散
B类：
曝光方式,光敏聚酰亚胺,图形化,材料组分,光刻工艺,工业生产线,聚酰亚胺树脂,引发剂,曝光能量,步进式,高功率,接触式,低功率,两种模式,通过观察,形质,获得最佳,扩散动力学,曝光模式,工业应用,自由基引发
AB值：
0.288007
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