典型文献
一种MEMS平面线圈电镀方法
文献摘要：
电镀是微机电系统(micro-electro-mechanical system,MEMS)中制备平面线圈结构的常用工艺,电镀工艺中的边缘效应引起平面线圈表面电流密度分布不均匀,影响平面线圈电镀质量.利用有限元仿真软件,计算电镀平面线圈工艺电流及其密度,寻求最佳工艺参数.利用增加陪镀结构的方法,有效抑制平面线圈电镀工艺中的边缘效应,进一步优化电流密度分布.在此基础上开展电镀工艺,使用30℃的硫酸盐溶液制备了结构完整、表面光滑的双层平面线圈.测试结果表明:带有陪镀结构的双层平面线圈宽度误差0.1 μm,厚度误差0.6 μm,对电镀平面线圈具有广泛的实用意义.
文献关键词：
电镀工艺;微机电系统(MEMS);有限元仿真;平面线圈
中图分类号：
作者姓名：
卢宇杰;阮勇
作者机构：
北京信息科技大学仪器科学与光电工程学院,北京100192;清华大学精密仪器系,北京100084
文献出处：
引用格式：
[1]卢宇杰;阮勇-.一种MEMS平面线圈电镀方法)[J].北京信息科技大学学报（自然科学版）,2022(03):96-100
A类：
B类：
MEMS,平面线圈,微机电系统,micro,electro,mechanical,system,线圈结构,电镀工艺,边缘效应,电流密度分布,分布不均匀,电镀质量,有限元仿真,最佳工艺参数,硫酸盐溶液,表面光,实用意义
AB值：
0.192149
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