典型文献
交错梳齿型静电驱动MEMS微镜的设计与制作
文献摘要：
设计了一种交错梳齿型(SVC)静电驱动MEMS微镜,首先在底层硅片上通过刻蚀预留出微镜活动空间,并进行固定梳齿组刻蚀,然后再在上面键合顶层硅片,并将顶层硅片减薄抛光至目标厚度,再在其上进行移动梳齿组和镜面结构的刻蚀.该工艺既兼顾了SVC型微镜偏转角度较大的优点,又避免了使用SOI衬底导致背面套刻精度差的缺点,提高了整个结构的稳定性,该微镜的最大理论角度可达24.7°.
文献关键词：
光刻;键合;垂直交错梳齿;MEMS;微镜
中图分类号：
作者姓名：
李晓明;郝瑞亭;倪海桥;牛智川
作者机构：
云南师范大学能源与环境科学学院,云南昆明650500;中国科学院半导体研究所超晶格与微结构国家重点实验室,北京100083
文献出处：
引用格式：
[1]李晓明;郝瑞亭;倪海桥;牛智川-.交错梳齿型静电驱动MEMS微镜的设计与制作)[J].云南师范大学学报（自然科学版）,2022(02):9-13
A类：
硅片减薄,垂直交错,垂直交错梳齿
B类：
齿型,静电驱动,MEMS,设计与制作,SVC,刻蚀,预留,留出,活动空间,上面,键合,抛光,镜面,偏转角度,SOI,衬底,背面,大理论,光刻
AB值：
0.298715
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