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管式PECVD法沉积的SiyNx/SiOxNy叠层膜的研究
文献摘要：
本文对采用管式等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积的氮化硅与氮氧化硅(SiyNx/SiOxNy)叠层膜进行了实验研究,结果表明:在硅片正面镀膜时增加SiOxNy膜层,既可以增强正面的钝化效果,还可以降低对光的反射率,增加光吸收率,从而提升太阳电池的短波响应能力,通过对膜层组分和反应气体流量等工艺参数进行匹配优化,使太阳电池的光电转换效率提升了0.07％;利用SiyNx/SiOxNy叠层膜抗氧化、抗钠离子的特性,使太阳电池的抗电势诱导衰减(PID)性能提升了22％.
文献关键词：
管式PECVD;氮氧化硅薄膜;氮化硅薄膜;SiyNx/SiOxNy叠层膜;太阳电池;短波响应;抗PID性能
中图分类号：
作者姓名：
王贵梅;许志卫;靳迎松;朱少杰;王少丽
作者机构：
晶澳太阳能有限公司,邢台 055550
文献出处：
引用格式：
[1]王贵梅;许志卫;靳迎松;朱少杰;王少丽-.管式PECVD法沉积的SiyNx/SiOxNy叠层膜的研究)[J].太阳能,2022(01):40-44
A类：
SiyNx,氮氧化硅,短波响应,氮氧化硅薄膜
B类：
管式,PECVD,SiOxNy,叠层膜,等离子体增强化学气相沉积,硅片,镀膜,膜层,钝化效果,光的反射,反射率,光吸收,吸收率,太阳电池,响应能力,气体流量,匹配优化,光电转换效率,钠离子,电势诱导衰减,PID,性能提升,氮化硅薄膜
AB值：
0.249348
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