典型文献
基于微元材料去除模型的单摆抛光平面度预测
文献摘要：
为探究单摆参数对抛光工件平面度的影响,提出一种基于速度和压强分布耦合的抛光微元材料去除模型,以预测工件表面平面度.从单颗磨粒的材料去除出发,建立工件表面各微元单位时间内材料去除厚度模型,并将工件相对抛光垫速度和工件表面压强分布耦合代入模型;根据工件初始面形提取微元高度值,结合各微元材料去除的厚度,计算抛光后的工件表面平面度;试验验证平面度预测方法.结果表明:仿真与实际抛光后的面形的变化趋势相同,平面度PV20值绝对偏差小于12.0％,平面度预测可靠.
文献关键词：
单摆抛光;表面微元;速度分布;压力分布;平面度预测
中图分类号：
作者姓名：
李凯旋;李军;熊光辉;吴成;于宁斌;高秀娟
作者机构：
南京航空航天大学 机电学院, 南京 210016
文献出处：
引用格式：
[1]李凯旋;李军;熊光辉;吴成;于宁斌;高秀娟-.基于微元材料去除模型的单摆抛光平面度预测)[J].金刚石与磨料磨具工程,2022(02):208-215
A类：
单摆抛光,平面度预测,PV20,表面微元
B类：
材料去除模型,压强分布,工件表面,单颗磨粒,单位时间,厚度模,抛光垫,表面压,代入,速度分布,压力分布
AB值：
0.146664
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