典型文献
精细雾化抛光TC4钛合金抛光液优化研究
文献摘要：
配制适用于TC4钛合金雾化施液抛光的特种抛光液,通过抛光实验获得纳米级的光滑钛合金表面.研究不同磨料、氧化剂和络合剂含量对钛合金材料去除率和表面粗糙度的影响,通过正交试验优化抛光液组成及配比.优化后的抛光液由质量分数20％的SiO2磨料、0.1％的柠檬酸、1％的聚乙二醇-400、2％的H2O2组成,pH值为4.抛光试验结果表明,优化后抛光液的抛光效果较好,材料去除率及试件表面质量均有所提升,其中材料去除率为549.87 nm/min,表面粗糙度为0.678 nm.XPS分析表明,抛光过程中钛合金表层在酸性环境下与H2O2和柠檬酸反应,生成了易于通过机械作用去除的氧化层.
文献关键词：
化学机械抛光;精细雾化;TC4钛合金;抛光液;SiO2磨料
中图分类号：
作者姓名：
杨思远;苑晓策;李庆忠
作者机构：
江南大学机械工程学院 江苏无锡214122
文献出处：
引用格式：
[1]杨思远;苑晓策;李庆忠-.精细雾化抛光TC4钛合金抛光液优化研究)[J].润滑与密封,2022(10):65-70
A类：
精细雾化
B类：
TC4,抛光液,特种,纳米级,金表,磨料,氧化剂,络合剂,钛合金材料,材料去除率,表面粗糙度,正交试验优化,SiO2,柠檬酸,聚乙二醇,H2O2,光效,试件,表面质量,中材,XPS,光过,酸性环境,机械作用,用去,氧化层,化学机械抛光
AB值：
0.267382
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