典型文献
V含量对TaVN薄膜微观结构与摩擦学性能的影响
文献摘要：
为探讨V元素改善TaN薄膜摩擦学性能的机制,利用磁控溅射仪在304不锈钢基体上和单晶Si片制备不同V含量的TaVN薄膜.使用X射线衍射仪、扫描电镜、显微硬度计、表面综合性能测试仪表征和分析薄膜的结构及性能.结果表明:TaVN薄膜为面心立方结构,不同V含量的TaVN薄膜均在(111)晶面呈现择优取向;随着V含量的增加,TaVN薄膜(111)晶面出现向大角度偏移的现象;不同V含量的TaVN薄膜在扫描电子显微镜下的表面光滑平整无孔隙,膜层与基体间界面清晰,截面呈明显的柱状晶结构;随着V含量的增加,TaVN薄膜硬度先升高后降低,当TaV靶材中V原子分数为15％时,硬度最高;随着V含量的增加,摩擦因数降低,其原因是在摩擦的过程中,薄膜中的V元素氧化形成具有自润滑效果的Magnéli相氧化物V2O5;随着V含量的增加,TaVN薄膜磨损机制由磨粒磨损、黏着磨损和氧化磨损转变为磨粒磨损和氧化磨损.
文献关键词：
TaVN薄膜;微观结构;硬度;摩擦学性能
中图分类号：
作者姓名：
阎红娟;李春阳;司丽娜;刘峰斌;张韶华;卿涛;刘懿锋
作者机构：
北方工业大学机械与材料工程学院 北京100144;北京控制工程研究所 北京100190
文献出处：
引用格式：
[1]阎红娟;李春阳;司丽娜;刘峰斌;张韶华;卿涛;刘懿锋-.V含量对TaVN薄膜微观结构与摩擦学性能的影响)[J].润滑与密封,2022(08):1-6
A类：
TaVN,TaV,Magn
B类：
摩擦学性能,TaN,磁控溅射,不锈钢基,单晶,Si,显微硬度,硬度计,综合性能测试,测试仪,仪表,面心立方,晶面,面呈,择优取向,大角度,角度偏移,显微镜下,表面光,膜层,界面清晰,柱状晶,靶材,摩擦因数,自润滑,li,V2O5,磨损机制,磨粒磨损,黏着磨损,氧化磨损
AB值：
0.304535
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