典型文献
纳秒激光薄膜损伤机理和应用研究
文献摘要：
根据我国强激光装置建设和工程任务对强激光薄膜元件的需求,基于对薄膜损伤机制的认识,同济大学提出了"全流程定量化"控制缺陷制备激光薄膜的思路.同济大学利用结构、性质可控人工小球制作定量化人工缺陷,系统研究了基板加工、超声清洗、电场模拟与调控、镀膜材料与工艺选择、镀后后处理、激光预处理、传递与保存等因素对薄膜元件激光损伤特性和损伤规律的影响.从损伤形貌和损伤规律上证实了节瘤缺陷电场增强理论模型的正确性,促进了研究人员对节瘤缺陷损伤机制的认知深度,提出了提升薄膜损伤性能的新途径,创建了新材料,实现了可兼顾环境稳定性、光谱特性和损伤特性的多功能强激光薄膜制备,有力支撑了我国强激光装置建设和激光技术的进一步提升.
文献关键词：
激光薄膜;激光损伤;节瘤;人工缺陷;电场增强
中图分类号：
作者姓名：
程鑫彬;焦宏飞;张锦龙;钮信尚;马彬;沈正祥;王占山
作者机构：
同济大学物理科学与工程学院精密光学工程技术研究所,先进微结构材料教育部重点实验室,上海市数字光学前沿科学研究基地,上海市全光谱高性能光学薄膜器件与应用专业技术服务平台,上海200092
文献出处：
引用格式：
[1]程鑫彬;焦宏飞;张锦龙;钮信尚;马彬;沈正祥;王占山-.纳秒激光薄膜损伤机理和应用研究)[J].光学精密工程,2022(21):2568-2590
A类：
节瘤缺陷
B类：
纳秒激光,激光薄膜,膜损伤,损伤机理,国强,强激光,工程任务,薄膜元件,损伤机制,同济大学,定量化,控制缺陷,人工缺陷,基板,超声清洗,电场模拟,镀膜,膜材料,材料与工艺,工艺选择,激光预处理,激光损伤,损伤特性,损伤规律,上证,电场增强,损伤性能,环境稳定性,光谱特性,薄膜制备,激光技术
AB值：
0.353646
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