典型文献
氦离子辐照对纯钨表层纳米压痕硬度的影响
文献摘要：
钨作为散裂中子源固体靶的首选材料,钨的辐照损伤及氦行为研究被广泛关注.本文对高纯钨片进行常温氦离子注入,氦离子能量350 keV,注入剂量分别为1×1016,5×1016和1×1017ions·cm-2.利用纳米压痕测量技术表征He注入前后钨的硬度变化,测试结果表明,氦离子注入后,钨出现辐照硬化现象,且随着注入剂量的增大,钨表面纳米压痕硬度增大;3个不同注入剂量样品的纳米压痕硬度值都随着测量深度先增大后降低.透射电镜(TEM)结果显示,氦离子注入后,钨内产生了氦离子聚集,形成氦泡,且随着注入剂量的增大,氦泡尺寸逐渐增大,氦泡密度提高.
文献关键词：
钨;氦离子;纳米压痕;氦泡;微观结构
中图分类号：
作者姓名：
魏少红;陈怀灿;袁野;殷雯;纪全;赵海龙
作者机构：
中国科学院高能物理研究所,北京100049;散裂中子源科学中心,广东东莞523808;中南大学材料科学与工程学院,湖南长沙410083;北京航天动力研究所,北京100176
文献出处：
引用格式：
[1]魏少红;陈怀灿;袁野;殷雯;纪全;赵海龙-.氦离子辐照对纯钨表层纳米压痕硬度的影响)[J].稀有金属,2022(11):1520-1525
A类：
钨片,氦离子注入,1017ions
B类：
氦离子辐照,纳米压痕,压痕硬度,散裂中子源,固体靶,选材,辐照损伤,伤及,高纯钨,离子能量,keV,注入剂量,测量技术,技术表征,He,辐照硬化,硬度值,测量深度,透射电镜,TEM,氦泡
AB值：
0.260772
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