典型文献
用于极紫外光刻技术的光刻胶材料研究进展
文献摘要：
光刻是芯片制造的核心步骤,光刻机与光刻胶在光刻过程中是相互依存、缺一不可的.然而,作为与光刻机同等重要的光刻胶得到的关注较少.一方面是因为鲜有新闻媒体报道光刻胶,民众看到的大部分是与光刻机相关的内容,另一方面是因为国内从事光刻胶相关产业研发的公司较少.目前,国内中低端的印刷电路板用光刻胶已经基本国产化,而用于芯片制造的半导体用光刻胶几乎完全依赖进口.摆脱国外对芯片制造行业的垄断,高端光刻胶国产化也势在必行.目前,最高端的半导体芯片制造使用的是极紫外光源,使用的也是对应的极紫外光刻胶.本文主要聚焦最新极紫外光刻技术中的光刻胶材料研究现状,分别从有机材料以及有机无机杂化材料两个方面进行了归纳总结,希望能为国内新型光刻胶的研发与产业发展提供有意义的参考.
文献关键词：
光刻胶;极紫外光刻;集成电路
中图分类号：
作者姓名：
苑景润;张萍萍;石建兵;杨高岭;蔡政旭;佟斌;钟海政;董宇平
作者机构：
北京理工大学材料学院,北京100081;北京理工大学光电学院,北京100081
文献出处：
引用格式：
[1]苑景润;张萍萍;石建兵;杨高岭;蔡政旭;佟斌;钟海政;董宇平-.用于极紫外光刻技术的光刻胶材料研究进展)[J].高分子通报,2022(12):11-25
A类：
B类：
光刻技术,材料研究,芯片制造,光刻机,相互依存,缺一不可,同等重要,新闻媒体,媒体报道,道光,相关产业,内中,中低端,印刷电路板,本国产,国产化,体用,制造行业,半导体芯片,极紫外光源,极紫外光刻胶,有机材料,有机无机杂化,杂化材料,集成电路
AB值：
0.197426
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