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N—Cl型卤胺抗菌材料紫外稳定性研究进展
文献摘要：
N—Cl型卤胺抗菌剂具有高效、快速、稳定、安全、可再生的抗菌性能,由其开发的抗菌材料广泛应用于医疗卫生、纺织、水过滤等领域.然而,N—Cl型卤胺抗菌材料在应用过程中受紫外光作用会使材料上的N—Cl键或抗菌剂与材料基质的连接共价键断裂,导致活性氯的含量降低,进而引起其抗菌性能的下降.如何提高N—Cl型卤胺抗菌材料的紫外稳定性受到了国内外学者的重点关注.该文首先阐述了N—Cl型卤胺抗菌剂的种类和造成N—Cl型卤胺抗菌材料中活性氯含量降低的因素;然后,综述了通过改变卤胺前驱体结构,引入纳米TiO2、ZnO、AgCl无机粒子和有机紫外吸收剂来提高N—Cl型卤胺抗菌材料紫外稳定性的研究进展;最后,讨论了该研究领域所面临的问题和挑战,并对未来发展进行了展望.
文献关键词：
N—Cl型卤胺抗菌剂;功能材料;紫外稳定性;氯含量;应用
中图分类号：
作者姓名：
万建升;李红;张世豪;闫俊
作者机构：
大连工业大学 纺织与材料工程学院,辽宁 大连 116034
文献出处：
引用格式：
[1]万建升;李红;张世豪;闫俊-.N—Cl型卤胺抗菌材料紫外稳定性研究进展)[J].精细化工,2022(07):1320-1329
A类：
B类：
卤胺,抗菌材料,紫外稳定性,稳定性研究,抗菌剂,抗菌性能,纺织,紫外光,共价键断裂,含量降低,活性氯含量,前驱体,TiO2,ZnO,AgCl,紫外吸收剂,功能材料
AB值：
0.194428
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