典型文献
用于电子束蒸镀金属银膜的钨坩埚改造
文献摘要：
采用钨坩埚和电子束蒸发设备蒸镀金属银薄膜时,银在熔融状态下和钨坩埚是浸润的,坩埚内熔融金属的液面呈凹陷形状.这类凹陷形状的蒸发源,常常会导致被沉积薄膜的均匀性变差.根据固体表面微结构会改变液体与固体接触角的理论,本文尝试用化学腐蚀的方法在光滑平整的钨坩埚内壁上加工出沟槽阵列,来改变熔融金属材料与钨坩埚内壁的接触角,从而改变液态银与钨坩埚壁的浸润性.结果表明,当沟槽宽约1mm,深约0.5mm,周期约2mm时,熔融的金属银和钨坩埚内壁不再浸润.用改造前和改造后的钨坩埚分别蒸镀厚度100nm的银膜,发现改造后的钨坩埚可以有效提高蒸镀薄膜的均匀性.
文献关键词：
电子束蒸发;钨坩埚;银薄膜;微结构;均匀性
中图分类号：
作者姓名：
付学成;乌李瑛;栾振兴;毛海平;王英
作者机构：
上海交通大学先进电子材料与器件校级平台,上海 200240
文献出处：
引用格式：
[1]付学成;乌李瑛;栾振兴;毛海平;王英-.用于电子束蒸镀金属银膜的钨坩埚改造)[J].真空,2022(03):41-45
A类：
钨坩埚
B类：
蒸镀,镀金,金属银,银膜,电子束蒸发,银薄膜,熔融状态,熔融金属,液面,面呈,凹陷,发源,表面微结构,接触角,试用,化学腐蚀,内壁,壁上,沟槽,金属材料,液态,浸润性,1mm,5mm,期约,2mm,100nm
AB值：
0.266905
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