典型文献
基于硅晶格常数的纳米线宽计量技术
文献摘要：
随着集成电路中关键尺寸的不断减小,测量精度要求达到原子级才能保证器件的有效性,这给纳米线宽的精确测量带来了新的挑战.2018年第26届国际计量大会提出使用硅｛220｝晶面间距作为米定义的复现方式,这为原子尺度纳米线宽计量技术提供了新的思路与方法.目前,我国已掌握基于硅晶格常数的纳米线宽计量技术的原理,研制了系列小量值纳米线宽标准器,建立了纳米线宽的智能化定值方法,为初步建立我国自己的原子尺度纳米线宽计量溯源体系奠定了基础.此外,介绍了我国纳米线宽计量技术下一阶段的研究目标,并对我国纳米线宽计量技术未来在国际的影响力,以及在我国自主知识产权大规模集成电路发展中的支撑作用作出了展望.
文献关键词：
硅晶格常数;纳米线宽;透射电子显微镜;关键尺寸;溯源性
中图分类号：
作者姓名：
王芳;施玉书;张树;李伟
作者机构：
中国计量科学研究院,北京100029
文献出处：
引用格式：
[1]王芳;施玉书;张树;李伟-.基于硅晶格常数的纳米线宽计量技术)[J].计量科学与技术,2022(04):13-18,47
A类：
线宽标准,计量溯源体系
B类：
硅晶格常数,纳米线宽,计量技术,关键尺寸,测量精度,精度要求,原子级,精确测量,出使,晶面间距,复现,原子尺度,思路与方法,小量,标准器,定值方法,下一阶段,自主知识产权,大规模集成电路,集成电路发展,透射电子显微镜,溯源性
AB值：
0.203177
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