典型文献
基于专利共类的关键核心技术识别模型构建及应用——以光刻技术为例
文献摘要：
[研究目的]基于专利数据系统、客观地识别关键核心技术,有助于丰富关键核心技术的识别方法,帮助中国更加科学的实施战略布局.[研究方法]在界定关键核心技术概念的基础上,提出一种基于专利共类的关键核心技术识别方法.首先依据技术的共现度大小,筛选热点技术作为研究对象,通过技术相似度、技术影响力和技术增长潜力率识别核心技术和潜力技术,在此基础上,借助社会网络分析法,以核心技术和潜力技术为节点,共现强度为边,计算结构洞并排序,选取排名前20位作为关键核心技术.[研究结论]以光刻技术为例进行案例研究,结果显示微生物或酶、光学元件、对表面涂布流体的一般工艺等技术是光刻技术领域的关键核心技术,有助于中国掌握技术发展趋势、合理配置资源、获取竞争优势.
文献关键词：
核心技术;技术识别;潜力技术;热点技术;光刻技术;专利共类
中图分类号：
作者姓名：
毛荐其;杜艳婷;苗成林;郝存浩
作者机构：
山东工商学院工商管理学院 烟台 264005
文献出处：
引用格式：
[1]毛荐其;杜艳婷;苗成林;郝存浩-.基于专利共类的关键核心技术识别模型构建及应用——以光刻技术为例)[J].情报杂志,2022(11):48-54
A类：
专利共类
B类：
关键核心技术,核心技术识别,技术识别模型,构建及应用,光刻技术,研究目的,专利数据,数据系统,别关,战略布局,共现度,热点技术,技术相似度,技术影响力,增长潜力,力率,潜力技术,社会网络分析法,计算结构,结构洞,并排,光学元件,涂布,技术领域,技术发展趋势
AB值：
0.331795
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