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氦等离子体喷涂中发射光谱参数的研究
文献摘要：
在等离子体喷涂中,通常采用高温高压等离子惰性气体喷射粉末至金属表面,以此实现表面镀膜.喷涂等离子体的密度和温度是否恰当合理,通常通过惰性气体的发射光谱来诊断.文中采用相对论方法结合德拜屏蔽模型计算了等离子体喷涂中类氢氦离子发射光谱对应的跃迁能、跃迁概率和振子强度等光谱参数,分析了光谱参数随德拜屏蔽长度的变化规律,分别拟合出了跃迁能、跃迁概率和振子强度的对数与德拜屏蔽长度对数间的解析关系式,以期为氦等离子体喷涂中等离子体状态的诊断提供参考.
文献关键词：
等离子体喷涂;发射光谱;类氢氦离子;德拜屏蔽
中图分类号：
作者姓名：
寇元哲;李向富
作者机构：
陇东学院机械工程学院,甘肃庆阳745000
文献出处：
引用格式：
[1]寇元哲;李向富-.氦等离子体喷涂中发射光谱参数的研究)[J].机械工程师,2022(08):10-12,16
A类：
德拜屏蔽,类氢氦离子
B类：
等离子体喷涂,发射光谱,光谱参数,高温高压,惰性气体,喷射,金属表面,镀膜,相对论,屏蔽模型,跃迁概率,振子,合出,数间,关系式
AB值：
0.167523
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