典型文献
我国集成电路布图设计专有权保护现状及发展趋势
文献摘要：
介绍了我国集成电路布图设计的授权状况,从行政保护、司法保护、社会保护、自我保护等方面分析了我国集成电路布图设计专有权保护现状.在建设知识产权强国和强化知识产权保护的战略背景下,集成电路布图设计专有权保护制度将会进一步优化,创新主体在集成电路设计上的创新活力将会进一步激发,我国集成电路产业的发展质量将会进一步提升.
文献关键词：
集成电路布图设计专有权;保护;现状;发展趋势
中图分类号：
作者姓名：
傅启国;李晓雨;王梦婷;曹坤
作者机构：
南京市知识产权保护中心,南京 210000
文献出处：
引用格式：
[1]傅启国;李晓雨;王梦婷;曹坤-.我国集成电路布图设计专有权保护现状及发展趋势)[J].中国发明与专利,2022(11):55-60
A类：
集成电路布图设计专有权
B类：
保护现状,权状,行政保护,司法保护,社会保护,自我保护,知识产权强国,知识产权保护,保护制度,创新主体,集成电路设计,创新活力,集成电路产业,发展质量
AB值：
0.205926
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
