典型文献
TFT-LCD一种条纹Mura的研究与改善
文献摘要：
针对A机种生产过程中发生的一种条纹Mura问题,通过不良品的解析和数据统计分析,发现Mura异常区的黑色矩阵层(BM)图案边缘有内切(Undercut)问题,是因为制造过程中显影机导轮与玻璃接触部分发生静电累积,静电干扰使BM光阻与玻璃之间的接触角变小,造成显影后背面曝光工艺中BM未固化层发生热融溢流(Melt Flow)现象,固化工艺后形成BM边缘内切.研究发现,通过优化背面曝光工艺参数和关闭曝光上灯可以有效改善条纹Mura的程度;且将显影机导轮"平行式"排列改造成"之字式"排列,可以进一步改善条纹Mura现象.改善后条纹Mura的发生率由0.8％降至0,改善效果显著.
文献关键词：
条纹缺陷;内切;背面曝光;静电积累;"之字式"排列
中图分类号：
作者姓名：
张正林;曹淑辉;王炎;吕琛;封振宇
作者机构：
南京京东方显示技术有限公司,南京210033;山东大学化学与化工学院,济南250100
文献出处：
引用格式：
[1]张正林;曹淑辉;王炎;吕琛;封振宇-.TFT-LCD一种条纹Mura的研究与改善)[J].光电子技术,2022(01):47-52
A类：
Undercut,显影机,背面曝光
B类：
TFT,LCD,Mura,机种,不良品,数据统计分析,异常区,BM,图案,内切,制造过程,导轮,接触角,影后,后背,曝光工艺,固化层,生热,溢流,Melt,Flow,固化工艺,善后,条纹缺陷,静电积累
AB值：
0.336313
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