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上磨牙颊侧微种植体支抗在安氏Ⅱ类正畸减数拔牙患者垂直向控制中的作用
文献摘要：
目的:探讨常规上磨牙颊侧微种植体支抗技术对安氏Ⅱ类拔牙矫治病例垂直向控制中的作用.方法:对常规使用两颗上磨牙颊侧微种植体支抗的28例安氏Ⅱ类正畸减数拔牙患者进行治疗前后头颅侧位X线片的头影测量分析比较.结果:头影测量发现垂直向指标中,下颌平面角SN-MP平均减小1.40°±1.45°,FMA平均减小1.58°±1.32°;后前面高比(S-Go/N-Me)平均减小1.42％±1.43％;Y轴角平均减小1.03°±0.99°,面角平均增大1.37°±1.05°,差异均有统计学意义(P＜0.001);上颌磨牙平均压低(0.68±1.40)mm,上前牙平均压低(1.07±1.55)mm,差异均有统计学意义(P＜0.05),提示治疗后有一定的上磨牙压低,产生了一定的下颌平面逆时针前旋,对侧貌改善产生了积极影响.结论:常规上磨牙颊侧微种植体支抗有一定的垂直向控制能力,可以产生一定的下颌逆时针旋转,可更好地改善安氏Ⅱ类患者的侧貌.
文献关键词：
垂直向控制;微种植体支抗;头影测量
中图分类号：
作者姓名：
梁炜;汤瑶;黄文斌;韩冰;林久祥
作者机构：
北京大学口腔医学院·口腔医院正畸科,国家口腔医学中心,国家口腔疾病临床医学研究中心,口腔生物材料和数字诊疗装备国家工程研究中心,口腔数字医学北京市重点实验室,国家卫生健康委员会口腔医学计算机应用工程技术研究中心,国家药品监督管理局口腔生物材料重点实验室,北京 100081
文献出处：
引用格式：
[1]梁炜;汤瑶;黄文斌;韩冰;林久祥-.上磨牙颊侧微种植体支抗在安氏Ⅱ类正畸减数拔牙患者垂直向控制中的作用)[J].北京大学学报（医学版）,2022(02):340-345
A类：
减数拔牙
B类：
微种植体支抗,正畸,垂直向控制,规上,拔牙矫治,矫治病例,两颗,后头,头颅,头影测量分析,下颌平面角,SN,MP,FMA,Go,Me,轴角,上颌磨牙,均压,上前牙,磨牙压低,逆时针,对侧,侧貌,控制能力
AB值：
0.238
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