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Pd⁃Ni合金薄膜氢气传感器中隔离膜性能与机理研究
文献摘要：
针对P d?Ni合金薄膜氢气传感器的响应特性与零点稳定性受氧气氛影响的问题,分别用离子束溅射技术和原子层沉积技术制备了100 nm P d?Ni合金薄膜氢气敏感电阻和10 nm Al2 O3/SiO2/Al2 O3复合隔离膜,并测试对比了有隔离膜和无隔离膜样品的氢敏响应特性和零点稳定性,分析了氧气氛影响氢敏特性与隔离膜阻氧透氢的机理.结果表明:复合隔离膜对灵敏度影响极小,起到了较好的透氢阻氧作用,大大改善了空气作为背景气体的氢敏响应特性和零点稳定性,但隔离膜对P d?Ni合金薄膜氢气传感器的响应时间和恢复时间有负面影响.
文献关键词：
薄膜;氢气传感器;隔离膜;Pd-Ni合金;透氢;阻氧
中图分类号：
作者姓名：
谢贵久;张璐;季惠明;张浩
作者机构：
天津大学材料科学与工程学院先进陶瓷及加工技术教育部重点实验室,天津300350;中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙410111
文献出处：
引用格式：
[1]谢贵久;张璐;季惠明;张浩-.Pd⁃Ni合金薄膜氢气传感器中隔离膜性能与机理研究)[J].载人航天,2022(03):338-343
A类：
B类：
Pd,金薄膜,氢气传感器,隔离膜,膜性能,响应特性,零点,离子束溅射,原子层沉积,沉积技术,气敏,感电,Al2,O3,SiO2,阻氧,透氢,极小,景气,响应时间,恢复时间
AB值：
0.261541
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