典型文献
MoS2薄膜厚度与光学性能的相关性研究
文献摘要：
采用低功率射频磁控溅射方法分别在玻璃和Si衬底表面沉积不同厚度的MoS2薄膜,经硫化退火处理后,利用Raman光谱、AFM、UV-Vis光谱和45°镜面反射光谱,对MoS2薄膜结构及光谱性质进行表征.结果表明,两种衬底上沉积的MoS2薄膜经退火处理后均在670、615及400～500 nm处出现分别对应A、B、C激子的明显吸收峰和反射峰,表明所制MoS2薄膜已结晶.A、B、C激子峰均随着薄膜层数增加而红移,表明MoS2薄膜的能带结构随层数发生改变.另外,A、B激子峰位置不受光谱检测方式的影响,而45°镜面反射光谱中C激子峰则相对于UV-Vis光谱有一定红移,因此,可依据A、B特征激子峰的有无及峰位判定MoS2薄膜的结晶度及层数,其中45°镜面反射光谱可用于非透明材料衬底上MoS2薄膜厚度(或层数)的判定.
文献关键词：
MoS2薄膜;薄膜厚度;磁控溅射;光学特性;反射光谱;激子峰
中图分类号：
作者姓名：
黄成斌;吴隽;张邵奇;祝柏林
作者机构：
武汉科技大学材料与冶金学院,湖北 武汉,430081;武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,湖北 武汉,430081
文献出处：
引用格式：
[1]黄成斌;吴隽;张邵奇;祝柏林-.MoS2薄膜厚度与光学性能的相关性研究)[J].武汉科技大学学报,2022(06):424-429
A类：
激子峰
B类：
MoS2,薄膜厚度,光学性能,低功率,射频磁控溅射,Si,衬底,退火处理,Raman,AFM,UV,Vis,镜面反射,反射光谱,薄膜结构,光谱性质,吸收峰,膜层,层数,红移,能带结构,数发,光谱检测,检测方式,无及,结晶度,透明材料,光学特性
AB值：
0.259953
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