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M形去除函数在高效气囊抛光中的应用研究
文献摘要：
气囊抛光技术是一种适用于大口径自由曲面光学元件精密加工且极具潜力的加工方法.在高效抛光阶段,气囊抛光具有充气压力大、压缩量大、转速高等特点,导致去除函数由理想的类高斯变为M形.针对高效气囊抛光中M形去除函数的产生原因,材料去除效率的影响因素和中频误差控制等角度展开实验研究.研究结果表明,M形去除函数产生主要受气囊压缩量影响,最高材料去除效率可达33.0269mm3/min,同时也验证了M形去除函数在高效气囊抛光中的适用性.
文献关键词：
高效抛光;气囊抛光;M形去除函数;材料去除效率
中图分类号：
作者姓名：
姜涛
作者机构：
集美大学机械与能源工程学院,厦门361021
文献出处：
引用格式：
[1]姜涛-.M形去除函数在高效气囊抛光中的应用研究)[J].制造业自动化,2022(08):70-73
A类：
高效抛光,0269mm3
B类：
去除函数,气囊抛光,抛光技术,大口径,径自,自由曲面光学,光学元件,精密加工,加工方法,充气压力,压缩量,产生原因,材料去除效率,中频,误差控制,受气,高材
AB值：
0.224078
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