典型文献
低光学衍射随机六元环金属网络导电膜
文献摘要：
传统金属网栅多为二维方格结构,光学透射率损耗较大,高级次衍射杂散光严重干扰探测系统成像质量.本文设计了一种具有随机六元环表面结构的金属网络导电薄膜,该结构相较于传统二维方格结构金属网栅具有更高的光学透射率;由于在结构中引入了随机变量,也可以实现高级次衍射杂散光的抑制.随后在ZnS光学窗口上完成了线宽为4μm、周期为100μm的随机六元环结构金属网络导电膜的制备.测试结果表明,样品表面图案完整、金属线清晰可见、线宽均匀、无断线情况发生.ZnS光学窗口在长波红外波段透射率损失10.5％,在可见光波段透射率仅损失6.8％,同时可以显著均化高级次衍射杂散光分布.电磁屏蔽数值仿真结果显示,该网络导电膜在0.2?20 G H z电磁波谱段内平均电磁屏蔽效能为37.9 dB,最低屏蔽效能29.6 dB,比传统方格结构网栅高3.2 dB.本文设计并制备的随机六元环结构金属网络导电膜具有优异的光学性能与电磁屏蔽效能,对于提升图形化光学窗口的综合性能具有重大意义.
文献关键词：
光学窗口;金属网络导电膜;电磁屏蔽;高级次衍射
中图分类号：
作者姓名：
李子杨;杨霄;刘华松;姜玉刚;白金林;李士达;杨仕琪;苏建忠
作者机构：
天津津航技术物理研究所, 天津市薄膜光学重点实验室, 天津 300308
文献出处：
引用格式：
[1]李子杨;杨霄;刘华松;姜玉刚;白金林;李士达;杨仕琪;苏建忠-.低光学衍射随机六元环金属网络导电膜)[J].物理学报,2022(13):169-175
A类：
金属网络导电膜,高级次衍射
B类：
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AB值：
0.233026
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