典型文献
氮化硅微腔中的光学频率梳(特邀)
文献摘要：
具有高品质因子(Q值)的光学谐振腔能够长时间将光束缚在较小的模式体积内,极大地增强了光与物质的相互作用,成为集成光学器件中具有重大潜力的重要组成部分.聚焦于目前广泛应用于集成非线性光学领域的氮化硅材料平台,为了解决大尺寸氮化硅微环腔由拼接误差、表面粗糙等因素导致的散射损耗较大的问题,进行了一系列的工艺改进以提高大尺寸氮化硅微环腔的品质因子.结果 表明:通过薄膜再沉积工艺可以有效降低氮化硅波导的散射损耗,半径为560μm的大尺寸氮化硅微环腔的本征Q值得到了平均26％的提升.得益于提高的微腔Q值,在氮化硅微环腔中实现了重复频率40 GHz的光学频率梳.
文献关键词：
氮化硅微环腔;品质因子;光学频率梳
中图分类号：
作者姓名：
李锦;王丕屿;王正瑜;牛睿;万帅;郭光灿;董春华
作者机构：
中国科学技术大学中国科学院量子信息重点实验室,安徽合肥230026;中国科学技术大学中国科学院量子信息和量子物理协同创新中心,安徽合肥230026
文献出处：
引用格式：
[1]李锦;王丕屿;王正瑜;牛睿;万帅;郭光灿;董春华-.氮化硅微腔中的光学频率梳(特邀))[J].红外与激光工程,2022(05):11-17
A类：
氮化硅微环腔
B类：
硅微腔,光学频率梳,特邀,高品质因子,光学谐振腔,光束,模式体积,集成光学器件,非线性光学,硅材料,大尺寸,拼接误差,表面粗糙,散射损耗,工艺改进,低氮,波导,重复频率,GHz
AB值：
0.227428
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