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氮化硅微腔中的光学频率梳
文献摘要：
具有高品质因子（Q 值）的光学谐振腔能够长时间将光束缚在较小的模式体积内，极大地增强了光与物质的相互作用，成为集成光学器件中具有重大潜力的重要组成部分。聚焦于目前广泛应用于集成非线性光学领域的氮化硅材料平台，为了解决大尺寸氮化硅微环腔由拼接误差、表面粗糙等因素导致的散射损耗较大的问题，进行了一系列的工艺改进以提高大尺寸氮化硅微环腔的品质因子。结果表明：通过薄膜再沉积工艺可以有效降低氮化硅波导的散射损耗，半径为560 μm的大尺寸氮化硅微环腔的本征Q值得到了平均26% 的提升。得益于提高的微腔Q 值，在氮化硅微环腔中实现了重复频率40 GHz 的光学频率梳。
文献关键词：
氮化硅微环腔;品质因子;光学频率梳
中图分类号：
作者姓名：
李锦;王丕屿;王正瑜;牛睿;万帅;郭光灿;董春华
作者机构：
中国科学技术大学 中国科学院量子信息重点实验室，安徽 合肥 230026;中国科学技术大学 中国科学院量子信息和量子物理协同创新中心，安徽 合肥 230026
文献出处：
引用格式：
[1]李锦;王丕屿;王正瑜;牛睿;万帅;郭光灿;董春华-.氮化硅微腔中的光学频率梳)[J].红外与激光工程,2022(05):
A类：
氮化硅微环腔
B类：
硅微腔,光学频率梳,高品质因子,光学谐振腔,光束,模式体积,集成光学器件,非线性光学,硅材料,大尺寸,拼接误差,表面粗糙,散射损耗,工艺改进,低氮,波导,重复频率,GHz
AB值：
0.220075
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