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太赫兹带阻滤波器工艺研究
文献摘要：
以中心工作频率130 GHz、衰减深度为-40 dB的太赫兹带阻滤波器为制备对象,介绍了其在制备过程中蒸镀、光刻、显影及湿法刻蚀等工艺步骤中的一些技术细节.制备得到的太赫兹滤波器加工误差<±3μm,考察了加工误差对滤波器传输性能的影响,该加工误差在可接受范围.为进一步验证工艺的可靠性,使用空间测量装置获得了滤波器样品传输性能,测试结果与设计值吻合度较好.最后,探讨了本工艺推广至更高频率器件的适用性及需要改进之处.文中介绍的硅基太赫兹器件加工工艺适用于电子器件与光子器件的融合发展.
文献关键词：
太赫兹;滤波器;工艺;传输性能;加工误差
中图分类号：
作者姓名：
王亮;邹睿智;张娜
作者机构：
合肥工业大学 光电技术研究院,安徽 合肥 230009;特种显示技术国家工程实验室,安徽 合肥 230009
文献出处：
引用格式：
[1]王亮;邹睿智;张娜-.太赫兹带阻滤波器工艺研究)[J].太赫兹科学与电子信息学报,2022(06):570-574,589
A类：
B类：
带阻滤波器,中心工作,工作频率,GHz,dB,制备过程,蒸镀,光刻,湿法刻蚀,技术细节,加工误差,传输性能,空间测量,测量装置,设计值,吻合度,高频率,硅基,太赫兹器件,加工工艺,电子器件,光子器件
AB值：
0.341826
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