典型文献
高性能铪锆氧铁电材料与器件先进调控技术研究进展
文献摘要：
重点阐述和总结了近年来面向高性能氧化铪基铁电材料和器件的先进调控技术,包括应力调控、氧空位调控、界面微结构调控以及尺寸调控等.通过电极材料对铁电薄膜施加拉伸应力以提高其铁电性能,应力工程为先进2D/3D结构铁电存储器(FRAM)开发提供了重要的技术手段;氧空位的存在降低了铁电相与稳定相之间的能量差从而稳定铁电相;界面微结构调控有效减少界面副反应和缺陷;尺寸调控可以限制晶粒大小、改善均匀性.这些调控技术不仅能显著提高单一铁电器件的稳定性和可靠性,还将在改善铁电存储阵列均匀性、铁电多值存储特性等方面发挥重要的作用.
文献关键词：
铁电性;铪锆氧(HfxZr1-xO2;HZO)材料;应力;界面;氧空位;尺寸
中图分类号：
作者姓名：
郭志愿;邱飞龙;倪金玉;赵毅
作者机构：
中国电子科技南湖研究院,浙江嘉兴 314002;中国科学技术大学先进技术研究院,合肥 230026;浙江大学信息与电子工程学院,杭州 310027
文献出处：
引用格式：
[1]郭志愿;邱飞龙;倪金玉;赵毅-.高性能铪锆氧铁电材料与器件先进调控技术研究进展)[J].半导体技术,2022(05):337-345
A类：
铪锆氧,先进调控技术,铁电存储器,HfxZr1
B类：
铁电材料,氧化铪,基铁,应力调控,氧空位,微结构调控,电极材料,铁电薄膜,加拉,拉伸应力,铁电性能,2D,FRAM,相与,副反应,晶粒大小,电器件,存储阵列,多值存储,xO2,HZO
AB值：
0.299942
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