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电解抛光工艺参数对钨表面形貌和表面粗糙度的影响
文献摘要：
采用硫酸–甲醇–二水合柠檬酸钠电解质溶液体系对钨进行电解抛光.抛光液中硫酸与甲醇的体积比为1:7,二水合柠檬酸钠浓度为0.25 mol/L.改变抛光电压、温度及时间,探究了工艺参数对电解抛光钨的微观形貌和表面粗糙度的影响.用扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)和原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)对电解抛光后的试样进行表征测试.研究结果表明,在电压、温度和时间分别为22 V、20℃和7 min时,试样具有最小的表面粗糙度和良好的表面形貌.
文献关键词：
钨;电解抛光;工艺参数;表面形貌;表面粗糙度
中图分类号：
作者姓名：
张雪峋;刘奉妍
作者机构：
意瑞生物科技(苏州)有限公司,苏州 215151;上海理工大学 材料科学与工程学院,上海 200093
文献出处：
引用格式：
[1]张雪峋;刘奉妍-.电解抛光工艺参数对钨表面形貌和表面粗糙度的影响)[J].有色金属材料与工程,2022(01):18-26
A类：
B类：
电解抛光,抛光工艺,表面形貌,表面粗糙度,二水,水合,电解质溶液,抛光液,体积比,柠檬酸钠浓度,微观形貌,scanning,electron,microscope,原子力显微镜,atomic,force,AFM,温度和时间
AB值：
0.251882
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