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因瓦合金超光滑表面加工的研究
文献摘要：
为了实现因瓦合金高质量表面的超精密加工,提高因瓦合金的抛光质量,基于多层级纳米抛光技术对因瓦合金进行了表面质量研究.通过不锈钢抛光盘和自动抛光机对因瓦合金进行粗磨、细磨、粗抛和细抛,并采用光学轮廓仪、三维轮廓仪、残余应力测试仪和X射线光电子能谱仪(XPS)对4个抛光阶段下因瓦合金的表面形貌、表面粗糙度、残余应力和表面化学状态等方面进行分析,进一步探究因瓦合金逐级加工过程中的表面组分及状态.结果表明,逐级加工可以将因瓦合金的表面粗糙度降至5 nm以下,大幅度提高工件表面质量,实现合金表面超光滑状态.抛光过程中工件表面的残余应力主要为压应力,且残余应力随着抛光精度的提升逐渐降低,但切应力始终维持在一个较低的水平.X射线光电子能谱分析结果表明,抛光后工件表面部分Ni和Fe原子以+2价的氧化状态存在,占所有原子数的21.86％左右.通过多层级抛光技术实现了 5nm以内的表面粗糙度,对因瓦合金超精密加工工艺和提高成品质量具有重要的意义.
文献关键词：
因瓦合金;抛光;精密加工;表面形貌;表面粗糙度
中图分类号：
作者姓名：
王婉;王志军;马晓康;周青;许泉;王永杰;傅建明
作者机构：
西北工业大学凝固技术国家重点实验室,陕西西安710072;上海机电工程研究所,上海201109;中国科学院西安光学精密机械研究所,陕西西安710119
文献出处：
引用格式：
[1]王婉;王志军;马晓康;周青;许泉;王永杰;傅建明-.因瓦合金超光滑表面加工的研究)[J].铸造技术,2022(12):1058-1062
A类：
B类：
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AB值：
0.274886
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