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量子成像技术前沿进展与展望
文献摘要：
量子成像技术作为一种物像分离、抗干扰能力强的成像技术,自1995年首次在实验上实现以来,现已得到深入的探索和广泛的应用.回顾了量子成像技术的起源及主要发展历程,综述了近8年纠缠光源和经典光源量子成像技术的主要进展,介绍了由光场调制技术而衍生出的单像素成像、单光子扫描成像及非视域成像等量子成像发展趋势,概述了非光子粒子的量子成像这一量子成像新方案,并对量子成像技术的发展前景进行了展望.
文献关键词：
量子成像;鬼成像;关联成像;单像素成像;单光子扫描成像;非视域成像
中图分类号：
作者姓名：
刘攀;宋新兵;杨家之;吴清源;张安宁
作者机构：
北京理工大学物理学院量子技术研究中心,北京100081;北京理工大学物理学院量子调控与应用研究中心,北京100081
文献出处：
引用格式：
[1]刘攀;宋新兵;杨家之;吴清源;张安宁-.量子成像技术前沿进展与展望)[J].导航与控制,2022(01):1-12,40
A类：
单光子扫描成像
B类：
量子成像,技术前沿,前沿进展,进展与展望,物像,抗干扰能力,已得,纠缠光,光源,主要进展,光场调制,调制技术,单像素成像,非视域成像,等量,子粒,一量,新方案,鬼成像,关联成像
AB值：
0.29303
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