典型文献
基于文献计量的全球光刻机领域发展态势研究
文献摘要：
光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是大规模半导体制造的核心设备,它的精度决定了芯片制程的精度,被誉为半导体工业皇冠上的明珠.全球高精度半导体用光刻机主要来自荷兰的ASML以及日本的Nikon和Canon这三家公司,而最顶级的EUV光刻机仅有ASML公司能够生产,最高能支持2nm芯片的制造,而我国光刻机领域最为领先的上海微电子装备公司目前仅能生产90nm工艺制程的光刻机.
文献关键词：
光刻机;发展态势;研究现状;文献计量
中图分类号：
作者姓名：
王杨;阮妹;杨梦雨;王茜
作者机构：
上海市研发公共服务平台管理中心;华东师范大学经济与管理学部
文献出处：
引用格式：
[1]王杨;阮妹;杨梦雨;王茜-.基于文献计量的全球光刻机领域发展态势研究)[J].华东科技,2022(12):60-62
A类：
掩模对准
B类：
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AB值：
0.384998
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