典型文献
先进光刻材料
文献摘要：
随着半导体产业的技术发展与进步,芯片制造在摩尔定律的推动下也在不断向先进工艺节点推进.与此同时,我们迫切需要开发与之相匹配的光刻材料来满足光刻图形化的快速发展需求.本文从光刻材料的成分和性能出发,介绍了光刻图形化技术所用的从紫外光刻胶、深紫外光刻胶、极紫外光胶、共轭聚合物光刻材料到导向自组装光刻材料,分析了光刻材料的发展现状,最后总结全文并对国内光刻材料的未来发展趋势进行展望.
文献关键词：
先进光刻技术;导向自组装光刻;光刻胶;共轭聚合物光刻材料;化学放大胶
中图分类号：
作者姓名：
李自力;徐兴冉;湛江浩;胡晓华;张子英;熊诗圣
作者机构：
复旦大学信息科学与工程学院,微纳系统中心,上海200438;上海工程技术大学材料工程学院,上海201620
文献出处：
引用格式：
[1]李自力;徐兴冉;湛江浩;胡晓华;张子英;熊诗圣-.先进光刻材料)[J].应用化学,2022(06):859-870
A类：
共轭聚合物光刻材料,导向自组装光刻,先进光刻技术,化学放大胶
B类：
半导体产业,芯片制造,造在,摩尔定律,先进工艺,图形化技术,光刻胶,深紫外光刻,极紫外光,料到
AB值：
0.162263
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
