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面向高反光区域的自适应结构光
文献摘要：
在结构光三维成像中,待测场景的高反光区域会在相机成像阵列上出现饱和,这会影响相移法结构光的相位准确度.针对这一问题,提出一种自适应相移结构光测量方法.首先,投射若干幅均匀灰度图像,并检测高反光区域和饱和程度,逐像素点确定最优投影光强.然后,根据目标特性降低投影强度实现坐标映射,生成一组高动态范围的自适应调制条纹.最后,对于饱和程度较大的区域,结合坐标映射的相位进行相位融合.实验结果表明,相比于传统方法,所提方法能够更加准确地对投影光强进行调整,相位的最大均方根误差(RMSE)和饱和区域RMSE分别减小了99.43％和92.48％,有效地提高了高反光区域的形貌测量精度.
文献关键词：
测量;光强饱和;相移结构光;最优投影光强;自适应条纹;相位融合
中图分类号：
作者姓名：
詹瑜;胡丹;刘凯
作者机构：
四川大学电气工程学院,四川成都610065;四川省产品质量监督检验检测院,四川成都610100
文献出处：
引用格式：
[1]詹瑜;胡丹;刘凯-.面向高反光区域的自适应结构光)[J].光学学报,2022(16):107-115
A类：
相移结构光,若干幅,最优投影光强,光强饱和
B类：
反光区域,自适应结构,三维成像,相机成像,列上,相移法,结构光测量,投射,灰度图像,测高,像素点,目标特性,坐标映射,高动态范围,自适应调制,相位融合,RMSE,形貌测量,测量精度,自适应条纹
AB值：
0.286218
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