典型文献
基于MCNP的X光机模拟及足跟效应修正
文献摘要：
为修正X射线管的足跟效应,根据常用的X射线管参数,基于MCNP建立了 X光机仿真模型,模仿光机成像系统增感屏,建立了 169个像素的探测器阵列,并利用该阵列探究了 X射线管的足跟效应现象,采用多项式拟合分段修正的方法设计了足跟效应过滤片HEF,对足跟效应照度过高的区域进行匀整修正.通过平面过滤片与HEF的通量分布对比,发现HEF成功地将阴阳极轴线方向-12°至19°的范围修正到无过滤片时强度的60％,该区域通量的最大相对误差小于3％,实现较大匀整面积.通过模拟成像对比分析发现,经过HEF修正后的X光机,大大提高了物体分辨的能力.所提出的对特定X光管参数和成像阵列面足跟效应的修正方法具有一定的实用性与可推广性,对X光机的设计和使用具有一定的参考价值.
文献关键词：
计量学;X光机;足跟效应;蒙特卡罗模拟
中图分类号：
作者姓名：
严永强;吴金杰;金尚忠;赵瑞
作者机构：
中国计量大学光学与电子科技学院,浙江杭州310018;中国计量科学研究院,北京100029;浙江省现代计量测试技术及仪器重点实验室,浙江杭州310018
文献出处：
引用格式：
[1]严永强;吴金杰;金尚忠;赵瑞-.基于MCNP的X光机模拟及足跟效应修正)[J].计量学报,2022(06):812-818
A类：
足跟效应
B类：
MCNP,光机,射线管,成像系统,增感,像素,探测器阵列,多项式拟合,方法设计,滤片,HEF,照度,匀整,整修,阴阳,阳极,极轴,轴线,无过,片时,整面,模拟成像,光管,修正方法,推广性,设计和使用,蒙特卡罗模拟
AB值：
0.313119
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