典型文献
第二代半导体材料及其原材料高纯砷
文献摘要：
本文综合阐述了第二代半导体材料砷化镓原材料高纯砷的特性,砷储量及分布情况、应用,对比了现有制备技术的优缺点,对影响高纯砷纯度的相关因素进行了分析讨论.目前制备高纯砷的主要技术有升华蒸馏法、铅熔池升华法、砷化氢热分解法、氯化还原法、硫化还原和氧化砷+盐酸还原法等.其中氯化还原法和氧化砷+盐酸还原法是目前工业产量化应用最多的方法.氯化还原法由于其工序冗长,过程中存在氯气等剧毒气体,对设备防腐要求较高,存在安全环保风险;氧化砷+盐酸还原法因其副产物可回收重复利用,工艺流程相对较短,废液、废气和废渣产生更少,对环境更友好.同时讨论了高纯砷粉的制备和杂质的影响及除杂方法.更高纯度、更大规模、更节能、更安全环保、自动化是未来高纯砷的发展方向.
文献关键词：
高纯砷;半导体材料;制备方法;氯化还原法;除杂
中图分类号：
作者姓名：
曾小东;胡丹;徐成
作者机构：
国家稀散金属工程技术研究中心 广东先导稀材股份有限公司,广东 清远 511517;广东先导微电子科技有限公司,广东 清远 511517
文献出处：
引用格式：
[1]曾小东;胡丹;徐成-.第二代半导体材料及其原材料高纯砷)[J].广东化工,2022(23):7-9
A类：
氯化还原法
B类：
第二代,半导体材料,高纯砷,砷化镓,储量,制备技术,分析讨论,主要技术,蒸馏法,熔池,砷化氢,热分解法,冗长,氯气,剧毒,毒气,设备防腐,安全环保风险,法因,副产物,可回收,重复利用,废液,废气,废渣,除杂方法,高纯度,制备方法
AB值：
0.290113
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