典型文献
专利家族视角下技术演化路径依赖研究——以光刻技术为例
文献摘要：
以专利家族为研究视角,阐述技术路径动态演化过程中的路径依赖.专利家族自引会对技术主路径造成干扰,通过对主路径进行调整,提出一种修正技术主路径的新思路.研究发现:光刻技术在"投影对准和曝光系统—浸没式投影物镜—浸没式光刻材料—光刻胶"4个阶段经历了"路径消解—路径产生与路径依赖—路径消解与突破"的动态演化过程.在此过程中,以荷兰阿斯麦、德国蔡司和日本东京电子为代表的专利家族发挥重要作用.其中,以阿斯麦为核心的利益联盟垄断核心技术,强化光刻技术发展的路径依赖作用,占据市场领先地位.研究结论有助于深化对路径依赖理论的认知,通过揭示光刻技术路径演化过程及企业演化格局,为后发国家突破技术路径依赖提供实践启示.
文献关键词：
专利家族;技术演化;技术路径依赖;光刻技术
中图分类号：
作者姓名：
杨武;陈培;Gad David
作者机构：
北京科技大学经济管理学院,北京 100083
文献出处：
引用格式：
[1]杨武;陈培;Gad David-.专利家族视角下技术演化路径依赖研究——以光刻技术为例)[J].科技进步与对策,2022(23):1-11
A类：
B类：
专利家族,技术演化路径,光刻技术,动态演化过程,自引,技术主路径,对准,曝光,光系统,浸没式,投影物镜,光刻胶,荷兰,阿斯,东京,利益联盟,领先地位,路径演化,演化格局,后发国家,突破技术,技术路径依赖,实践启示
AB值：
0.268838
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