典型文献
多层介质高反膜界面电场强度调控与光散射特性
文献摘要：
为了降低高精密使用场合下多层介质高反射薄膜的表面散射,首先从多层介质薄膜双向反射分布函数(BRDF)出发,理论分析了双向反射分布函数与薄膜界面电场强度的关系.在入射光为正入射且中心波长632.8 nm处的反射率大于99％的要求下,采用SiO2、Ta2O5两种材料设计了膜系G/(HL)8/A和膜系G/(HL)8H/A,并分析了两种膜系界面的电场强度分布.然后以膜系G/(HL)8H/A界面的电场分布为基础对场强进一步优化,得到了膜系G/(HL)60.4L1.6H1.5L0.5H/A.理论计算了正入射条件下三种膜系的双向反射分布函数,发现当散射角为-45°～45°时,膜系G/(HL)6H0.4L1.6H1.5L0.5H/A表面的BRDF小于膜系G/(HL)8/A和膜系G/(HL)8H/A.同时计算了三种膜系表面的总散射损耗(S),与膜系G/(HL)8/A和膜系G/(HL)8H/A相比,优化膜系G/(HL)6H0.4L1.6H1.5L0.5H/A的S降低了 91.44％、37.98％.实验验证了利用膜层界面电场强度调控薄膜表面散射的有效性.
文献关键词：
薄膜;多层设计;光散射;双向反射分布函数;总散射损耗
中图分类号：
作者姓名：
杨伟荣;潘永强;郑志奇
作者机构：
西安工业大学光电工程学院,陕西西安710021
文献出处：
引用格式：
[1]杨伟荣;潘永强;郑志奇-.多层介质高反膜界面电场强度调控与光散射特性)[J].中国激光,2022(06):16-22
A类：
6H1,5L0,6H0,总散射损耗
B类：
多层介质,膜界面,界面电场,电场强度,光散射特性,高精密,密使,高反射,面散射,双向反射分布函数,BRDF,入射光,中心波长,反射率,SiO2,Ta2O5,材料设计,膜系,HL,8H,强度分布,电场分布,4L1,5H,散射角,时计,膜层,多层设计
AB值：
0.239523
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