典型文献
低温原子层沉积封装技术在OLED上的应用及对有机、钙钛矿太阳能电池封装的启示
文献摘要：
有机半导体光电器件在基础研究和工业应用方面进展迅速,相关方向已经成为一个较为成熟的新兴领域.然而,这类器件中的关键有机材料存在对空气中的水、氧十分敏感的问题,严重影响了器件的长期工作性能.除了选择合适的传输层材料、界面层结构,利用界面工程提高器件水氧耐受能力之外,对器件进行可靠的封装是隔绝空气中水、氧的另一个有效手段.原子层沉积(atomic layer deposition,ALD)是一种近乎完美的薄膜沉积封装技术,这种技术所生长的薄膜具有独特的层-层(layer by layer)生长特性,而且可以在低温下沉积出厚度可控、重复率高、均匀致密的薄膜,使得该技术在半导体行业已经得到广泛应用.在此,我们将回顾ALD封装技术在有机发光二极管(organic light emitting diode,OLED)、有机太阳能电池(organic photovoltaics,OPV)和钙钛矿太阳能电池(perovskite solar cell,PSC)中的应用,并进一步讨论现阶段应用于OLED的相对比较成熟的ALD封装技术,及其对OPV和PSC封装的启示性意义.
文献关键词：
原子层沉积(ALD);有机发光二极管(OLED);有机太阳能电池(OPV);钙钛矿太阳能电池(PSC);封装
中图分类号：
作者姓名：
周静;田雪迎;王斌凯;张沙沙;刘宗豪;陈炜
作者机构：
华中科技大学 武汉国家光电研究中心 武汉430074;华中科技大学 中欧清洁与可再生能源学院 武汉430074;郑州大学 河南先进技术研究院 郑州450001
文献出处：
引用格式：
[1]周静;田雪迎;王斌凯;张沙沙;刘宗豪;陈炜-.低温原子层沉积封装技术在OLED上的应用及对有机、钙钛矿太阳能电池封装的启示)[J].化学学报,2022(03):395-422
A类：
B类：
原子层沉积,封装技术,OLED,钙钛矿太阳能电池,有机半导体,光电器件,工业应用,新兴领域,有机材料,长期工作性能,传输层,界面层,面层结构,界面工程,耐受能力,隔绝,atomic,layer,deposition,ALD,近乎,薄膜沉积,所生,by,生长特性,重复率,得该,半导体行业,有机发光二极管,organic,light,emitting,diode,有机太阳能电池,photovoltaics,OPV,perovskite,solar,cell,PSC,示性
AB值：
0.359979
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