典型文献
基于氨溶析出法制备高纯钨粉的研究
文献摘要：
高纯钨被用作靶材以及高精密集成电路导体制造等,对纯度要求极高(5N～6N).本文运用高通量试验方法提纯制备APT,采用多温区管式炉对APT原料进行热解离处理后氨溶,利用原位XRD和常规XRD对不同温度热解离的APT进行物相分析,结合正交设计对试验参数进行优化获得最优的氨溶处理条件,经过多次溶解-过滤-清洗-析出循环达到纯化目的后,对APT进行煅烧还原得到高纯钨粉,用辉光放电质谱法对纯化前后物料进行纯度分析.通过3次氨溶解析出循环后的APT在含5％体积分数的氢气氮气混合气氛下800℃还原10 h可以完全被还原,得到纯度为5N、平均颗粒尺寸为670 nm的W粉.本研究为高纯氧化钨和钨粉的制备和工艺的优化提供了研究方法和参照依据.
文献关键词：
高纯W粉;提纯方式;仲钨酸铵;热解离温度
中图分类号：
作者姓名：
鲍瑞;刘嘉宸;易健宏;普友福;张家涛;杨亚杰
作者机构：
昆明理工大学材料科学与工程学院,云南昆明650093;云南锡业集团(控股)有限责任公司研发中心,云南昆明650106;安泰科技股份有限公司,北京100094
文献出处：
引用格式：
[1]鲍瑞;刘嘉宸;易健宏;普友福;张家涛;杨亚杰-.基于氨溶析出法制备高纯钨粉的研究)[J].硬质合金,2022(03):157-164
A类：
热解离温度
B类：
高纯钨,钨粉,靶材,高精密,集成电路,5N,6N,APT,多温区,管式炉,物相分析,正交设计,试验参数,处理条件,煅烧,辉光放电质谱法,纯度分析,溶解析出,氢气,氮气,混合气氛,颗粒尺寸,纯氧,氧化钨,提纯方式,仲钨酸铵
AB值：
0.328034
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
