典型文献
GD-MS用高纯钼成分分析质量控制样品的研制
文献摘要：
辉光放电质谱(GD-MS)是目前常用的高纯金属化学成分检测手段之一,然而使用GD-MS对高纯金属中的杂质含量进行定量分析时,需要与基体匹配的成分分析质控样品对相对灵敏度因子(RSF)进行校正.以钼酸铵和金属盐溶液为原料,采用液相掺杂,搅拌加热,蒸发结晶的方法得到掺杂钼酸铵.经氢化还原后,采用机械搅拌方式进一步进行均匀化处理,成功制备了GD-MS用高纯钼成分分析质控样品.考察了制备过程中均匀化处理时间对样品粒度分布,微观形貌及对样品杂质含量均匀性的影响.使用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)对本质控样品进行检测,经方差齐性检验,质控样品中杂质元素的含量均匀性达标.使用本质控样品对高纯钼中的Al,Fe,Cr,Co,Ni,Sb,Hf等7种元素的GD-MSRSF值进行校正,用于高纯钼样品检测.经平均值一致性检验,GD-MS测定值与ICP-MS测定结果一致.方法 的相对标准偏差(RSD)为0.53％～2.26％.
文献关键词：
辉光放电质谱;高纯钼;多元素掺杂;均匀化;质控样品
中图分类号：
作者姓名：
王焕文;陈雄飞;孙泽明;贾国斌;童坚
作者机构：
有研科技集团有限公司国家有色金属及电子材料分析测试中心,国合通用评价测试认证股份有限公司,北京100088;北京有色金属研究总院,北京100088
文献出处：
引用格式：
[1]王焕文;陈雄飞;孙泽明;贾国斌;童坚-.GD-MS用高纯钼成分分析质量控制样品的研制)[J].稀有金属,2022(01):131-136
A类：
高纯钼,质量控制样品,MSRSF
B类：
GD,分析质量控制,辉光放电质谱,高纯金属,金属化,成分检测,检测手段,杂质含量,基体匹配,质控样品,相对灵敏度因子,钼酸铵,金属盐溶液,蒸发结晶,氢化还原,机械搅拌,搅拌方式,均匀化处理,制备过程,处理时间,样品粒度,粒度分布,微观形貌,电感耦合等离子体质谱,ICP,经方,方差齐性检验,杂质元素,Co,Sb,Hf,种元素,样品检测,一致性检验,测定值,测定结果,相对标准偏差,RSD,多元素掺杂
AB值：
0.23886
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
