典型文献
一种席夫碱荧光材料的合成、光学性质与细胞毒性
文献摘要：
以对氨基苯甲酸甲酯、水合肼、2,3,4-二羟基苯甲醛、对硝基苯甲醛为起始原料,合成得到一种席夫碱荧光材料,通过IR、1 H NMR、13 C NMR、MS表征材料结构,采用UV-Vis、FS分析其光学性质.结果显示,苯环与席夫碱C=N键的共轭结构构筑,使得该荧光材料呈现特征光学吸收,UV-Vis最大吸收处于269 nm,斯托克位移为73 nm,此外,该材料表现低毒性,对体外环境EVC304细胞未显示显著抑制作用,具有一定应用前景.
文献关键词：
荧光材料;结构构筑;合成;光学性能;低毒性
中图分类号：
作者姓名：
成昭
作者机构：
西安医学院 药学院,陕西 西安 710021
文献出处：
引用格式：
[1]成昭-.一种席夫碱荧光材料的合成、光学性质与细胞毒性)[J].化工科技,2022(05):49-53
A类：
EVC304
B类：
席夫碱,荧光材料,光学性质,细胞毒性,对氨基苯甲酸,甲酸甲酯,水合肼,苯甲醛,硝基苯,起始原料,NMR,UV,Vis,FS,苯环,共轭结构,结构构筑,得该,光学吸收,斯托克,材料表现,低毒性,外环境,显著抑制作用,光学性能
AB值：
0.396017
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