典型文献
自由曲面磁流变抛光最佳压力场获取方法
文献摘要：
针对自由曲面光学元件面形较复杂的特点,文中提出了一种磁流变抛光最佳的压力场获取方法.首先通过对磁流变抛光自由曲面光学元件抛光区域的压力场进行分析,得到压力场影响因素;其次,结合压力场影响因素,基于几何相贯理论建立压力场量化形态学评价方法;然后,基于自由曲面的几何模型,将该方法分别用于平面、不同曲率的球面和自由曲面,进行不同浸入深度和不同角度的分析,得到对应的压力场面形,再进行压力场形态学评价计算;最后通过对所得的实验数据进行分析,证明该方法能够很好地表征压力场形态学参数.
文献关键词：
自由曲面;磁流变抛光;去除函数;压力场;形态学分析
中图分类号：
作者姓名：
杨航;王春;黄文;何建国;贾阳
作者机构：
遵义师范学院工学院,贵州遵义563006;中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳621900;华中光电技术研究所武汉光电国家实验室,湖北武汉430073
文献出处：
引用格式：
[1]杨航;王春;黄文;何建国;贾阳-.自由曲面磁流变抛光最佳压力场获取方法)[J].电子机械工程,2022(01):54-59
A类：
B类：
磁流变抛光,压力场,获取方法,自由曲面光学,光学元件,抛光区域,形态学评价,几何模型,曲率,球面,浸入深度,场面,评价计算,形态学参数,去除函数,形态学分析
AB值：
0.22782
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
