典型文献
硅片基底表面修饰及浸润性变化
文献摘要：
固体表面的浸润性是自然界普遍存在的一种性质,在人们的日常生活、工业和农业中具有重要的作用.液体对在固体界面的浸润行为源于固体的表面能和微纳米结构.基于自然界生物的浸润行为,人们对特殊浸润性的功能表面产生了极大地兴趣.近几年来,有关特殊浸润性表面的研究取得了不错的进展.在此,我们讨论了硅片基底表面修饰及其浸润性的变化.通过在超亲水的硅片基底上依次修饰氨基、含3A链的deoxyribonucleic acid(DNA)分子及含氟荧光基团的DNA分子,基底表面的浸润性发生变化.通过侧向力和原子力显微镜测试,表明具有疏水性的表面,侧向力会变小;而当表面具有亲水性时,侧向力变大.
文献关键词：
硅片;表面;浸润;DNA;侧向力
中图分类号：
作者姓名：
张肖;周玉雪;杜晓蕊
作者机构：
天津科技大学理学院 化学系,天津 300457;中国科学院 仿生材料与界面科学重点实验室(理化技术研究所),北京 100190
文献出处：
引用格式：
[1]张肖;周玉雪;杜晓蕊-.硅片基底表面修饰及浸润性变化)[J].广东化工,2022(02):1-3
A类：
B类：
硅片,片基,表面修饰,浸润性,种性,表面能,微纳米结构,功能表面,近几年来,不错,超亲水,3A,deoxyribonucleic,acid,含氟,荧光基团,侧向力,原子力显微镜,疏水性,亲水性
AB值：
0.305526
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
