典型文献
耐电晕聚酰亚胺复合薄膜的新工艺设计
文献摘要：
由于拥有优异的综合性能,聚酰亚胺复合材料已经成为微电子领域和电子工业不可缺少的基体材料.目前制备聚酰亚胺薄膜的方法包括流延法、浸渍提拉法、离子交换法以及层铺流延法.本文结合工作实际,总结了现有的生产耐电晕聚酰亚胺薄膜的制备工艺,对比了现有工艺的优缺点,并在现有工艺的基础上,提出了多次滚涂生产聚酰亚胺薄膜的新工艺方法.
文献关键词：
聚酰亚胺;薄膜;制备工艺;耐电晕
中图分类号：
作者姓名：
胡学欢;张明玉
作者机构：
河北铁科翼辰新材科技有限公司,石家庄 052160;苏州工业职业技术学院,江苏苏州 215104;浙江巨创新材料科技有限公司,浙江湖州 313100;苏州沃尔兴电子科技有限公司,江苏苏州 215101
文献出处：
引用格式：
[1]胡学欢;张明玉-.耐电晕聚酰亚胺复合薄膜的新工艺设计)[J].电工材料,2022(03):13-17
A类：
B类：
聚酰亚胺复合薄膜,新工艺,工艺设计,聚酰亚胺复合材料,微电子,电子工业,基体材料,流延法,浸渍,提拉法,离子交换法,工作实际,耐电晕聚酰亚胺薄膜,制备工艺,滚涂,工艺方法
AB值：
0.280341
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