典型文献
一种新型超高纯XCDA纯化器的研发
文献摘要：
新型XCDA纯化器纯化后的10N超高纯压缩空气,广泛应用于集成电路12寸14～28nm高端产线及第三代半导体等新兴领域,是半导体核心ASML光刻机生产中主要使用的气体之一.研发主要分为三部分,纯化器工艺设计、纯化器外观设计、纯化器自控系统设计.该纯化器采用两塔～四塔工作方式,改良大容量吸附剂,可抵抗原料气杂质波动,全自动设计,完善的报警连锁功能,保障设备安全运行,实现无人值守,工程师可进行现场及远端控制.
文献关键词：
XCDA纯化器;10N;改良大容量吸附剂;工艺;吸附;自控系统
中图分类号：
作者姓名：
高嵩;阮方;崔冬;刘松青
作者机构：
大连华邦化学有限公司,大连116000
文献出处：
引用格式：
[1]高嵩;阮方;崔冬;刘松青-.一种新型超高纯XCDA纯化器的研发)[J].价值工程,2022(05):50-52
A类：
XCDA,改良大容量吸附剂,连锁功能
B类：
高纯,纯化器,10N,压缩空气,集成电路,28nm,及第,第三代半导体,新兴领域,ASML,光刻机,三部分,工艺设计,外观设计,自控系统,四塔,工作方式,自动设计,设备安全,无人值守,远端
AB值：
0.272198
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