典型文献
ITO靶材制备的发展及现状
文献摘要：
ITO靶材通常用于制作透明导电薄膜,是半导体光伏、LCD/OLED显示器等领域不可或缺的原材料.文章综合评述了ITO靶材制备技术现状,介绍了其常规制备方法,如ITO纳米粉体制备、成型技术、烧结技术、靶材绑定焊接技术等ITO靶材制备工艺,并分析了各工艺的优点和缺点,提出了高品质ITO靶材制备技术的研究方向.
文献关键词：
ITO靶材;制备;烧结
中图分类号：
作者姓名：
张倍维;黄誓成;陆映东;宋春华
作者机构：
广西晶联光电材料有限责任公司,广西 柳州 545006
文献出处：
引用格式：
[1]张倍维;黄誓成;陆映东;宋春华-.ITO靶材制备的发展及现状)[J].企业科技与发展,2022(03):26-28
A类：
B类：
ITO,靶材,发展及现状,透明导电薄膜,LCD,OLED,显示器,制备技术,技术现状,制备方法,纳米粉体,粉体制备,成型技术,烧结技术,绑定,焊接技术,制备工艺
AB值：
0.350418
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
