典型文献
碳化硅光催化剂研究进展
文献摘要：
许多文献报道了光催化材料的设计合成及其在环境污染防治与资源循环利用中的应用.然而,大多数光催化材料含有过渡金属离子,其浸出的环境风险限制了催化材料的应用.碳化硅作为第三代半导体材料的代表,由于不含有过渡金属离子、耐高温酸碱、稳定性强等特性使其在环境污染防治工作中具有良好的潜在应用前景.近年来,一些文献报道了碳化硅的合成、改性及其作为光催化剂在环境与资源循环利用中的应用研究,然而很少有文献综述碳化硅光催化剂的应用研究进展.针对以上现状,围绕碳化硅光催化剂合成方法、掺杂改性及应用等方面,综述了国内外近年来在碳化硅光催化领域取得的进展,并对该光催化剂体系的前景进行了展望.
文献关键词：
碳化硅;光催化;综述
中图分类号：
作者姓名：
陈寅杰;李旋坤;李光辉;王金杰;刘阳;方民锋;刘睿;郭健;饶品华
作者机构：
上海工程技术大学 化学化工学院 上海 201620;上海工程技术大学 环境与资源创新中心 上海 201620;山东赛利科膜科技有限公司 山东 潍坊 262515
文献出处：
引用格式：
[1]陈寅杰;李旋坤;李光辉;王金杰;刘阳;方民锋;刘睿;郭健;饶品华-.碳化硅光催化剂研究进展)[J].功能材料,2022(11):11111-11117
A类：
B类：
碳化硅,硅光,光催化剂,许多文,光催化材料,设计合成,污染防治,资源循环利用,过渡金属离子,浸出,环境风险,第三代半导体,半导体材料,耐高温,酸碱,防治工作,潜在应用,文献综述,催化剂合成,合成方法,掺杂改性,催化剂体系
AB值：
0.222936
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
