典型文献
起垄内嵌基质栽培对日光温室夏季黄瓜根区温度、生长和产量的影响
文献摘要：
为探究起垄内嵌基质栽培(soil-ridge substrate-embedded cultivation,SSC)对夏季蔬菜栽培根区温度和生产性能的影响,以土壤栽培垄+银色反光地膜为对照(SR处理),分别设置SSC(垄高15 cm,宽度20 cm)+银色反光地膜(SSC处理),SSC(垄高10 cm、宽度20 cm)+银色反光地膜(SSCs处理)以及SSC(垄高10 cm、宽度30 cm)+银色反光地膜(SSB处理)共3个处理,在夏季日光温室中研究不同规格SSC的根区温热效应、黄瓜生长及产量情况.结果 表明,2019年6月4-8日和7月4-8日,根区白天平均温度均以SSB处理最高,以SSCs处理最低,说明SSCs处理对夏季高温阶段黄瓜根区温度的缓冲能力最强.6月份连续5个昼夜中根区最高温度平均值与最低温度平均值的差值以SSB处理最高,7月份连续5个昼夜中根区最高温度平均值与最低温度平均值的差值以SR处理最高;2个月份根区最高温度平均值与最低温度平均值的差值均以SSCs处理最低,说明SSCs处理的根区温度波动范围小,稳定性强.SSCs和SSB处理黄瓜的株高、茎粗、叶片SPAD值、叶片数、植株地上部干重和根系干重均显著高于SR处理,又以SSCs处理对黄瓜生长的促进作用最显著.此外,SSC和SSCs处理黄瓜的单果重和产量均显著提高,其中产量较SR处理分别提高了6.4％和7.0％.由此可见,起垄内嵌基质栽培能够有效增强黄瓜根区温度的缓冲能力,进而提高产量,以垄高10 cm、宽20 cm的起垄内嵌基质栽培+银色反光地膜(SSCs处理)在夏季日光温室蔬菜生产中具有较好的应用前景,为起垄内嵌基质栽培方式的推广应用提供了科学的参数支持.
文献关键词：
日光温室;黄瓜;起垄内嵌式基质栽培;根区温度;产量
中图分类号：
作者姓名：
李宝石;刘文科;王奇;邵明杰
作者机构：
中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所,农业农村部设施农业节能与废弃物处理重点实验室,北京100081
文献出处：
引用格式：
[1]李宝石;刘文科;王奇;邵明杰-.起垄内嵌基质栽培对日光温室夏季黄瓜根区温度、生长和产量的影响)[J].中国农业科技导报,2022(02):177-183
A类：
起垄内嵌式基质栽培
B类：
黄瓜,根区温度,soil,ridge,substrate,embedded,cultivation,蔬菜栽培,培根,生产性能,土壤栽培,银色,反光,地膜,SR,垄高,SSCs,SSB,中研,不同规格,温热效应,白天,天平,平均温度,夏季高温,缓冲能力,昼夜,夜中,最高温度,最低温度,温度波动,波动范围,株高,茎粗,SPAD,叶片数,植株,地上部,干重,根系,单果重,提高产量,日光温室蔬菜,蔬菜生产,栽培方式,数支
AB值：
0.23449
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