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快恢复二极管技术综述
文献摘要：
本研究重点介绍少数载流子寿命控制技术中的全域少数载流子技术和局域少数载流子技术及不同细分的少数载流子寿命控制技术的优缺点,并从阳极发射效率控制技术(如PIN、LLD、SSD、SPEED、MPS等)出发,介绍各类快恢复二极管技术的历史演变及其结构的研究进展.同时,对比分析了另一种快恢复二极管的重要技术——高压钝化技术,如SIPOS技术及PI技术.然后介绍国内外快恢复二极管在各类电力电子领域的应用现状.最后阐释了快恢复二极管技术面临的技术挑战和未来发展趋势.
文献关键词：
快恢复二极管;寿命控制;阳极发射;高压钝化
中图分类号：
作者姓名：
王学良;钱敏
作者机构：
苏州城市学院光学与电子信息工程学院,江苏 苏州 215104;上海先进半导体制造有限公司,上海 200233
文献出处：
引用格式：
[1]王学良;钱敏-.快恢复二极管技术综述)[J].河南科技,2022(12):36-41
A类：
阳极发射,高压钝化,SIPOS
B类：
快恢复二极管,技术综述,少数载流子寿命,寿命控制,局域,发射效率,率控制,PIN,LLD,SSD,SPEED,MPS,历史演变,钝化技术,外快,电力电子,技术挑战
AB值：
0.271865
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