典型文献
一种甲基硅氧烷脱水除杂工艺
文献摘要：
针对有机硅行业甲基硅氧烷产品含水及机械杂质的问题,介绍了一种甲基硅氧烷脱水除杂工艺.该工艺主要利用静力平衡学及虹吸原理,将甲基硅氧烷产品经除水装置及过滤装置,实现去除甲基硅氧烷产品中的水及机械杂质的目的.除水装置采用旋流分离的方法,提高甲基硅氧烷与水的分离效果,甲基硅氧烷漂浮于除水装置上层,水及大部分粒径＞5μm机械杂质经除水装置底部排出,除杂之后利用高纯氮气将除杂装置内甲基硅氧烷产品压送,经微孔过滤器过滤掉＜1μm的机械杂质后输送回甲基硅氧烷产品储罐,从而达到除杂的目的.
文献关键词：
甲基硅氧烷;除水装置;过滤装置;旋流分离;虹吸;除杂
中图分类号：
作者姓名：
窦洪亮;周磊;盖婷婷
作者机构：
唐山三友硅业有限责任公司,河北省有机硅新材料技术创新中心,河北唐山063305
文献出处：
引用格式：
[1]窦洪亮;周磊;盖婷婷-.一种甲基硅氧烷脱水除杂工艺)[J].精细与专用化学品,2022(10):30-32
A类：
除水装置
B类：
甲基硅氧烷,杂工,有机硅,机械杂质,静力平衡,虹吸原理,过滤装置,旋流分离,分离效果,漂浮,浮于,分粒径,高纯,氮气,除杂装置,微孔,过滤器,滤掉,送回,储罐
AB值：
0.223463
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