典型文献
GB/T 10117《高纯锑》标准解读
文献摘要:
高纯锑主要用在半导体工业上,它是制备化合物半导体晶体和外延片的关键基础材料,可以形成锑化铟、锑化镓、锑化铝等化合物半导体,也可以作为半导体硅、锗等的掺杂剂,本文主要介绍了GB/T?10117新旧版本的主要变动内容及原因.
文献关键词:
高纯锑;标准
中图分类号:
作者姓名:
李素青;朱君
作者机构:
有色金属技术经济研究院有限责任公司;东方电气(乐山)峨半高纯材料有限公司
文献出处:
引用格式:
[1]李素青;朱君-.GB/T 10117《高纯锑》标准解读)[J].中国金属通报,2022(23):138-140
A类:
B类:
高纯锑,标准解读,化合物半导体,半导体晶体,锑化铟,锑化镓,化铝,体硅,掺杂剂,旧版本
AB值:
0.38775
相似文献
机标中图分类号,由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成,仅供学习研究参考。